ASML și Zeiss anunță că tehnologia de nouă generație pentru producția de cipuri ar putea fi gata în aproximativ 10 ani
Un succesor al celei mai avansate mașini de producție de cipuri a ASML ar putea fi disponibil în aproximativ zece ani, potrivit unui studiu evaluat de specialiști, realizat de ingineri ai companiei și ai partenerului său de optică, Carl Zeiss.
Echipamentul, denumit „Hyper NA”, ar putea imprima circuite mai mici, reutilizând în mare parte tehnologia existentă a celor două companii, se arată în lucrare, deși rămân provocări de rezolvat. ASML a început dezvoltarea acestei mașini, dar nu s-a angajat încă să o producă.
Această tehnologie este importantă pentru perspectivele viitoare ale ASML, ale partenerilor și ale competitorilor săi. ASML nu a oferit imediat un comentariu. Compania este cea mai valoroasă din Europa în funcție de capitalizarea de piață, datorită monopolului său asupra echipamentelor de litografie care folosesc lumina ultravioletă extremă (EUV) pentru a imprima circuitele minuscule ale cipurilor pentru inteligență artificială.
Circuite mai mici și mai rapide
Studiul publicat în numărul din octombrie al Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology arată că Hyper NA ar putea imprima caracteristici de până la 5 nanometri, cu peste o treime mai mici decât cele ale actualului instrument EUV „High NA” al ASML.
Deși producătorii de cipuri îmbunătățesc performanțele prin designuri 3-D, dimensiunile mai mici rămân esențiale pentru viteză și consumul de energie, iar litografia reprezintă un factor limitativ.
Dintre producătorii de cipuri, Intel a început să folosească High NA în producție, în timp ce luna trecută Samsung și SK Hynix au anunțat că vor urma în 2028, iar TSMC în 2030.
Studiul menționează că Zeiss poate produce deja oglinzi suficient de precise pentru Hyper NA, iar mașina ar fi abia mai mare decât instrumentele High NA, care au deja dimensiunile unui autobuz cu două etaje.
Dincolo de Hyper NA, autorii afirmă că instrumentele ar putea avea nevoie de o lungime de undă mai scurtă a luminii, aspect aflat încă în stadiul de cercetare academică.
Aceștia precizează că sursa de lumină actuală a ASML „poate fi reutilizată ca atare” pentru Hyper NA, menționând într-o notă că o tehnică alternativă cu lasere cu electroni liberi nu ar modifica designul sistemului de iluminare.
Aceste observații sunt relevante pentru startup-urile americane, inclusiv xLight, care dezvoltă surse de lumină cu laser cu electroni liberi, pe care Elon Musk a sugerat că le-ar putea prefera la fabrica sa de cipuri Terafab din Texas, și pentru Substrate, care explorează litografia cu raze X.